摘要： 《The Information》在 7 月 27 日報導，上海一家國家支持公司已把沉浸式 DUV 微影設備推入量產。首批機台預計交付中芯國際、華虹與長鑫儲存，2026 年約 5 台、2027 年約 20 台。分析人士提醒，良率打平、機隊穩定性和全球支援仍比做出可用機台更難。
7 月 27 日《The Information》引述兩名知情人士的說法：上海一家由國家支持的公司，已把沉浸式 DUV 微影設備推入量產階段。消息出來當天，ASML 股價盤中一度重挫 8%。今年內第一批機台將交付中芯國際（SMIC）、華虹半導體與長鑫儲存（CXMT）；出貨節奏是 2026 年約 5 台、2027 年約 20 台。
人力從各家抽調，產線已經動起來
製造商究竟是誰，報導裡沒有寫出來。能確認的部分是：DUV 的研發人力是從多家中國企業抽調而成，上海 Yuliangsheng Technology 名列其中；至於中國第一台沉浸式 DUV 掃描機，另一篇報導把功勞記在 Shanghai Aishengna 身上。自 2025 年 9 月起，中芯就持續在測試 Yuliangsheng 的沉浸式機台。
買方這份名單本身就說明了一些事——SMIC、華虹、CXMT 三家，恰好都列在美國眾議院第 8170 號決議草案的受限名單上。既然出口管制把供給壓住，能在自家境內造設備，就等於多開一條路。
製程能力：28nm 單次曝光可行，7nm 只能靠多重曝光
沉浸式 DUV 曝光一次，就能刻出 28nm 等級的圖形；要跨進 7nm，多重曝光是繞不開的路，而每多一道工序，疊對誤差與良率損失就跟著往上疊。機台零件大多已在國內供應，但仍有關鍵部件得看日本供應商；本土廠商一延誤，2026 年的產出目標也一併往後延。
對照組是 ASML：2026 年估計出貨約 130 台沉浸式系統，握有全球沉浸式市場 98.7%；2027 年打算再把沉浸式產能增加 30%，2028 年要不要再加 30% 則還在評估。5 台對上 130 台，中間差的不是幾個百分點，而是好幾個數量級。
「做得出來」不等於「量產得順、穩定得住」
Futurum Group 的 Nick Patience 把門檻講得很白：至少要達到「良率打平」，而不是手上有一台能動的機器就算數。他也點出，中芯用進口 DUV 機台跑出來的良率，距離台積電還很遠；而可靠性這種東西，只能靠產線現場好幾年的迭代慢慢累積。SemiAnalysis 則把量產規模稱為「最被低估的部分」——單一台機器的性能、整批機隊的性能、生態系還缺哪一塊，以及對上 ASML 那批折舊早已提完的舊機台時划不划算，每一項都是關卡。
ODDO BHF 的 Stephane Houri 要外界「打個折扣聽」，在他看來，中國端出的機種恐怕只會停在低階。Albright Stonebridge Group 的 Paul Triolo 認為，要追上 ASML，重點在於能不能把可靠機台穩定做出來、還要有在全球提供支援的能力，而這件事「相當遙遠」。AI Futures Project 六月給的評估更保守：要做到商業規模，得等到 2030 年代中期。
管制面與供應鏈的意義
對 ASML 來說，短期衝擊有限。SemiAnalysis 的說法是，這些本土機台「取代的是 ASML 因出口管制已經失去的營收」，並不會侵蝕它排得滿滿的訂單簿。ASML 全年股價漲幅仍超過 123%；中國占其第二季 66 億歐元系統淨銷售的 14%，全年占比約 20%，低於 2025 年的 33%。
真正要盯的是政策風向。除了第 8170 號決議，4 月提出的 MATCH 法案（眾院外委會 4 月 22 日通過）打算把管制擴及已裝機設備的維修與技術支援。EUV 這條線上：Reuters 曾報導中國做出可運作的原型，但 ASML 前後花了約二十年、投入約 100 億美元研發，才讓 EUV 在 2018、2019 年前後達到規模經濟。Triolo 的結論是：「EUV 夠不著。永遠別說永遠，但那是完全不同的技術。」